GVS Yeniden Kullanılabilir ABE1P3 SPR580 (S-M) SPR581 (M-L) Yarım Yüz Maskesi
YARIM YÜZ MASKELERİ
KATEGORİLER

GVS Yeniden Kullanılabilir ABE1P3 SPR580 (S-M) SPR581 (M-L) Yarım Yüz Maskesi

· SPR582 ABE1P3 organik, inorganik  gaz ve toz (partikül) filtresi ile birlikte kullanıma hazır yarım yüz maskesi
· Yüze mükemmel bir şekilde uyan ve kullanıcının takmayı tercih ettiği diğer gözlük veya kulaklık ürünleriyle uyumlu tam bir görüş açısı sunan kompakt, hafif ve esnek tasarım
· Kullanıcının solunum direncini azaltmasına olanak tanıyan ve maske içinde nem oluşumunu minimum düzeyde tutan, tam merkez konumlu ve dönmeyen valf
· Daha iyi konfor ve yüksek nemli ya da ıslak koşullarda dahi güvenli kullanıma olanak tanımak için 4 konumda kolayca ayarlanabilen hafif, kaydırmaz kayış
· FDA uyumlu, lateks ve silikon içermeyen, kokusuz ve hipo-alerjik materyaller 
· Filtre üzerine SPM420 set veya SPM421 ön ped ilave ederek; P3 toz (partikül) koruma ömrü uzar

Özellikler

Özellik

Açıklama

Birincil Malzeme

Yumuşak TPE Malzeme (Silikon içermez)

Boyut

S/M – M/L

Koruma Özellikleri

A: Organik bileşenlere ait gaz ve buharlar (Aseton, Benzol, Fenol, Trikloretilen, Toluen, Metanol vb.),B: İnorganik gazlar ve buharlar. Klor, Hidrojensülfür, hidrosiyanik asit vb.,E: Sülfürdioksit, Hidrojenklorür,P3 - Toz / Partikül,Yarım Yüz Maskesi

Uygulama Sahası

Kimyasal Üretim ve işleme Ortamı

Sertifikasyon

EN 140:1998

Kutu Adedi

10

Ürün Serisi

ELIPSE ABE1P3

Yüz Maskesi Türü

Yarım Yüz Maskesi

Ürün Özellikleri
KORUMA ÖZELLİKLERİ
Etkinleştirilmiş karbon, maksimum yüzeyde tutma verimliliği için belirli bir gözenek yapısına ve ideal solunum direnci için belirli bir gözenek boyutuna sahiptir. Maskeler , bir dizi gaz, buhar, toz ve buğuya karşı koruma sağlamak için iki etkinleştirilmiş karbon filtreleme yapısına sahiptir. Bu yapı dolduktan sonra yedek filtrelerle birlikte değiştirilebilir.Bu filtreler 1.000 ppm...xTLV'ye varan yoğunluktaki maddeler ile 50 TLV'ye varan toz ve buğuya karşı çok çeşitli koruma sağlar.

UYGULAMA SAHASI
ABE1P3: Kimyasal üretim ve işleme ortamında çoklu gaz ve toz riskleri için kullanılır (amonyak hariç).